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공지사항

반도체 공정기술분야 재직자 교육과정 수요조사
작성자 김형만 작성일자 2021-06-11 10:21:50

안녕하세요~ 아주대학교 기업지원센터입니다.

반도체 공정기술분야 재직자 교육의 수요를 파악하여 교육과정을 개설하고자

다음 교육과정에 대한 수요조사를 진행하오니 많은 관심과 참여를 바랍니다.

수요조사 참여하기: https://forms.gle/vcumxCu5zFWVRvVe9


과정명

교육

시간

교육목표

세부교육내용

Photolithography 공정 기술 및 실습

1

8시간

반도체 제조 핵심 기술중 하나인 사진(photolighoraphy) 공정에 대해 이해

사진 공정의 이론적인 원리를 학습하고 실습을 통해 공정 및 장비 운영의 실무적 직무지식을 함양

이론 교육(3H)>

 Lithography  Exposure tool

 Photo-mask  Photoresist (PR)

 Photolithography process steps

실습 교육(5H)>

 가우닝룸 소개 및 방진복 착용 실습

 클린룸 소개 및 실습  Wafer handling 실습

 Photolithography 실습

- Prime, PR coating, soft bake, exposure

- PEB, develop, hard bake

 Pattern 평가 및 align 실습

Oxidation 공정 기술 및 실습

1

8시간

반도체 제조 핵심 기술중 하나인 클리닝 및 산화(oxidation) 공정에 대해 이해

클리닝 및 산화 공정의 이론적인 원리를 학습하고 실습을 통해 공정 및 장비 운영의 실무적 직무지식을 함양

이론 교육(3H)>

 반도체 공정의 오염원

 Cleaning process  Oxidation process

 Deal-Grove oxidation model

 산화 공정 변수의 영향  산화막 두께 측정

실습 교육(5H)>

 가우닝룸 소개 및 방진복 착용 실습

 클린룸 소개 및 실습  Wafer handling 실습

 Cleaning 공정 실습

- SPM cleaning, HF cleaning, RCA cleaning

 Oxidation 공정 실습 (dry oxidation)

 산화막 두께 측정 실습

Etching 공정 기술 및 실습

1

8시간

반도체 제조 핵심 기술중 하나인 건식 및 습식 식각(etching) 공정에 대해 이해

건식 및 습식 식각의 이론적인 원리를 학습하고 실습을 통해 공정 및 장비 운영의 실무적 직무지식을 함양

이론 교육(3H)>

 Wet etching mechanism  Wet etching applications

 Dry etching mechanism  Dry etching applications

 Etching profile 평가

실습 교육(5H)>

 가우닝룸 소개 및 방진복 착용 실습

 클린룸 소개 및 실습  Wafer handling 실습

 Wet etching 공정 실습  Dry etching 공정 실습

 박막 두께 측정 실습

CVD 공정 기술 및 실습

1

8시간

반도체 제조 핵심 기술중 하나인 화학기상증착(chemical vapor deposition: CVD) 공정에 대해 이해

클리닝 및 CVD의 이론적인 원리를 학습하고 실습을 통해 공정 및 장비 운영의 실무적 직무지식을 함양

이론 교육(3H)>

 Deposition  CVD process PVD process

 ALD process  Cleaning process  공정 변수의 영향

실습 교육(5H)>

 가우닝룸 소개 및 방진복 착용 실습

 클린룸 소개 및 실습  Wafer handling 실습

 Cleaning 공정 실습 - SPM cleaning, HF cleaning

 CVD 공정 실습 (LPCVD)

 Silicon nitride 박막 두께 측정



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